真空技术主要包括真空获得、真空测量、真空检漏和真空应用四个方面.在真空技术发展中，这四个方面的技术是相互促进的.
随着真空获得技术的发展，不锈钢真空腔体加工，真空应用日渐扩大到工业和科学研究的各个方面.真空应用是指利用稀薄气体的物理环境完成某些特定任务.有些是利用这种环境制造产品或设备，如灯泡、电子管和等. 这些产品在使用期间始终保持真空，大型真空腔体加工，而另一些则只是把真空当作生产中的一个步骤，产品在---环境下使用，如真空镀膜、真空干燥和真空浸渍等.
真空的应用范围极广，主要分为低真空、中真空、高真空和真空应用.
半导体真空腔体市场近几年快速发展，越来越多的公司也表达了进入芯片领域的兴趣.以存储芯片为例，以前国内存储芯片完全靠进口，今年福建晋华集成电路的内存生产线有望投产，真空腔体加工，另外长江存储科技公司也在建设内存和闪存芯片生产线.格力、康佳等传统家电企业也表示，将进入芯片领域.
据国际半导体设备与材料协会报告显示，目前正在天津、西安、北京、上海等16个地区打造25个fab建设项目，福建晋华集成电路、长江存储科技公司等企业技术水平虽不及韩国，但均已投入芯片量产.报告预测，半导体真空腔体加工，今年半导体设备市场规模有望达118亿美元，实现同比43.9%的增长，并且明年市场规模有望扩大至173亿美元，增长46.6%，成为大市场.而同一时期内韩国的半导体设备市场规模从179.6亿美元减少至163亿美元，减幅为9.2%.---韩国成为全球很大半导体设备市场.
焊接是真空腔体制作中的环节之一。通常采用弧焊来完成焊接，可避免---中熔化的金属和氧气发生化学反应而影响焊接，弧焊是指在焊接过程中向钨电极周围喷射保护气体气，以防止熔化后的高温金属发生氧化反应。
真空腔体的弧焊接，原则上必须采用内焊，即焊接面是在真空一侧，以免存在死角而发生虚漏。真空腔体不允许内外双重焊接和双重密封
个---压在1cm2的面积上产生约1kgf的压力，对直径20cm的法兰来讲，就是1t的压力。圆筒或球形的腔体，由于构造的特殊性使得压力分散，腔体的壁厚2～4mm就不会变形。
但是，对于方形腔体，侧面的平板上要承受上吨的压力，必须通过增加壁厚或设置加强筋，才能防止变形。
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