




1、炉型结构:卧式与立式,单室与双室或多室,炉体炉门采用双层水冷,硅片除气装置公司,前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。
2、---温度:1500℃
3、工作区尺寸:按照用户需求定制
4、设备总功率:20-100 kw(含加热系统、真空机组、制冷机)
5、电源频率:50hz
6、电源电压:三相380 v(±10v)
使用环境
设备占地面积约:长2米,宽1.6米(约3.2平米)高1.95米;
电源:380 v±38 v,硅片除气装置,50 hz±0.5 hz,硅片除气装置价格,约15kw(外部电源用户自备);
工件要求:无油污,无腐蚀性物质;
环境温度: 5 ℃ ~ 35 ℃;
相对湿度: 20%-85%;
设备应安装在通风---的厂房内。
科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可---10-7pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点:
---真空度高;
控温精度高;
更高的升温速率;
智能化;
可真空去除产品空洞与气泡;
降低产品的氧化性;
提高工艺室的洁净度。
硅片除气装置-硅片除气装置公司-科创真空(商家)由北京科创鼎新真空技术有限公司提供。北京科创鼎新真空技术有限公司是一家从事“---检漏设备,---质谱检漏仪,lng抽真空设备”的公司。自成立以来,我们坚持以“诚信为本,---经营”的方针,勇于参与市场的良性竞争,使“科创真空”品牌拥有------。我们坚持“服务,用户”的原则,使科创真空在行业设备中赢得了客户的---,树立了---的企业形象。 ---说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息,谢谢!
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