




科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可---10-7pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点:
---真空度高;
控温精度高;
更高的升温速率;
智能化;
可真空去除产品空洞与气泡;
降低产品的氧化性;
提高工艺室的洁净度。
真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。
该设备有两种工艺流程:常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要,在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后,系统即按照用户的设定参数默认执行。
设备具有---的智能化,当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时,系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组,供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能,真空除气炉厂家,方便客户的使用。
1、真空除气装置,真空除气炉报价,在抽真空之前放置好产品、关闭箱室门,真空除气炉公司,然后启动抽真空,加热系统持续不间断渐热。真空除气炉公司,真空除气炉价格,达到设定真空度时,吉林真空除气炉,保持加热并持续保持真空度,设定工艺完成后,自动停止抽真空,加热系统关闭。当进入维持真空模式时,低于下限的时候自动启动;(启动为抽真空、停止为停止真空泵工作、解压为需要把真空破空)
2、真空度设定操作见操作说明书,用不到的功能禁止调整。
3、试验时间完成后,自动破空,破空完成后,方可开门取出产品。
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