




科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可---10-7pa,真空除气装置,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点:
---真空度高;
控温精度高;
更高的升温速率;
智能化;
可真空去除产品空洞与气泡;
降低产品的氧化性;
提高工艺室的洁净度。
保修期满后,天津真空除气装置,供方将以优惠价格向用户提供备品备件,并对设备提供有偿技术和维修服务;
设备安装调试时,对用户进行技术培训,培训内容包括设备的工作原理、操作、安全、维修、质控等。
设备日常维护包括真空泵的油位检查、电机有无异响、电压电流是否正常、水冷机制冷与流量是否存在异常。真空室内保持清洁,不得有灰尘、异物或者溅入液体以及腐蚀性物质。应当定期对箱室清洁,可以进行酒精擦拭、氮气吹扫等。
1. 腔室内尺寸:号宽1050x高200x深700mm 号宽1050x高380x深700mm;
2. ---真空度:2×10-5pa;
3. 加热烘烤:200-800℃烘烤除---能,真空除气装置价格,±3℃;
4. 整体结构型式:泵箱一体,真空除气装置品牌,三个腔室;
5. 观察窗:每一个箱室均配一个φ100观察窗,材质为石英玻璃,透光好;
6. 控制方式:一室一泵配置,自动保持真空,可手动独立控制工作;
7. 异常报警功能:具有自动监控各部分的运行状态功能,异常诊断报警,故障诊断,并停止设备运行的功能。
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