真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。
该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，硅片除气装置价格，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。
设备具有---的智能化，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，硅片除气装置生产厂家，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，硅片除气装置，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。
科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，硅片除气装置品牌，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
---真空度高；
控温精度高；
更高的升温速率；
智能化；
可真空去除产品空洞与气泡；
降低产品的氧化性；
提高工艺室的洁净度。
本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，均可独立工作。具备以下主要功能：
1. 对储存箱室抽真空；
2. 控制储存箱室恒压稳定；
3. 具备加热烘烤功能；
4. 温度、湿度、真空度自动检测记录功能；
5. 漏电保护、真空泵过载保护、电气互锁保护功能；
6. 具备自动和手动两种操作模式；
7. plc控制，触摸屏操作
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