科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空除气炉厂家，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
---真空度高；
控温精度高；
更高的升温速率；
智能化；
可真空去除产品空洞与气泡；
降低产品的氧化性；
提高工艺室的洁净度。
本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，真空除气炉多少钱，均可独立工作。
加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，天津真空除气炉，---体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现---的温度均匀性。具有使用---、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310s）板材料，并且焊接多道加强筋以---不变形。
本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，均可独立工作。具备以下主要功能：
1. 对储存箱室抽真空；
2. 控制储存箱室恒压稳定；
3. 具备加热烘烤功能；
4. 温度、湿度、真空度自动检测记录功能；
5. 漏电保护、真空泵过载保护、电气互锁保护功能；
6. 具备自动和手动两种操作模式；
7. plc控制，触摸屏操作
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