使用环境
设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；
电源：380 v±38 v，北京硅片除气装置，50 hz±0.5 hz，约15kw（外部电源用户自备）；
工件要求：无油污，硅片除气装置公司，无腐蚀性物质；
环境温度： 5 ℃ ～ 35 ℃；
相对湿度： 20%-85%；
设备应安装在通风---的厂房内。
本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3d打印金属工件与合金材料的高真空热处理；x射线管高真空除气。
1、炉型结构：卧式与立式，硅片除气装置品牌，单室与双室或多室，炉体炉门采用双层水冷，前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。
2、---温度：1500℃
3、工作区尺寸：按照用户需求定制
4、设备总功率：20-100 kw（含加热系统、真空机组、制冷机）
5、电源频率：50hz
6、电源电压：三相380 v（±10v）
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关键词：
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