本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3d打印金属工件与合金材料的高真空热处理；x射线管高真空除气。
一种真空除气存储柜，包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等，柜体内设置有一个或多个储物室，硅片除气装置，储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端，硅片除气装置，柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖，储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板，托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连，真空除气炉。
真空测量装置：采用复合真空计，硅片除气装置生产厂家，使测量准确。
加热烘烤组件：采用铠装管加热，包括工件托盘及支架，箱室顶部中心测温。功率：9.5千瓦，控制精度：±1℃。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了---的物质基础。
真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。
前级泵：选用涡旋干式真空泵，无油运行，硅片除气装置公司，可为真空箱室提供洁净的真空环境。
分子泵：选用脂润滑复合分子泵，可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了---的物质基础。
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