真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。
该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。
设备具有---的智能化，硅片除气装置公司，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，天津硅片除气装置，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。
本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3d打印金属工件与合金材料的高真空热处理；x射线管高真空除气。
1、炉型结构：卧式与立式，硅片除气装置品牌，单室与双室或多室，炉体炉门采用双层水冷，前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。
2、---温度：1500℃
3、工作区尺寸：按照用户需求定制
4、设备总功率：20-100 kw（含加热系统、真空机组、制冷机）
5、电源频率：50hz
6、电源电压：三相380 v（±10v）
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