硅片除气装置价格-北京硅片除气装置-科创真空

真空除气炉、真空存储柜的使用环境

使用环境

　设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；

　电源：380 v±38 v，50 hz±0.5 hz，约15kw（外部电源用户自备）；

　工件要求：无油污，无腐蚀性物质；

　环境温度：   5 ℃ ～ 35 ℃；

　相对湿度：  20%-85%；

　设备应安装在通风---的厂房内。

真空除气炉的构成介绍

本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。

机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。

真空箱室单元由真空箱、真空测量装置、加热烘烤组件、管道阀门等组成。

真空箱：采用304不锈钢材质制造，分为上中下三个独立的真空箱室，北京硅片除气装置，其内表面在加工后经除油、电抛光处理，硅片除气装置公司，---了较少的藏气，提高了真空箱室的抽空效率和---真空。真空箱室外部有加强筋，---真空箱室承压能力。每个真空箱室门中间部位各具有一个φ100石英观察窗，真空箱室与真空获得系统采用柔性软管连接，方便快捷，并减少震动。真空箱室开门为上中下三开门，氟胶圈型式密封，向右侧侧开门。