河北硅片除气装置-科创真空-硅片除气装置公司

真空除气炉、真空存储柜的使用环境

使用环境

　设备占地面积约：长2米，河北硅片除气装置，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；

　电源：380 v±38 v，硅片除气装置品牌，50 hz±0.5 hz，硅片除气装置厂家，约15kw（外部电源用户自备）；

　工件要求：无油污，硅片除气装置价格，无腐蚀性物质；

　环境温度：   5 ℃ ～ 35 ℃；

　相对湿度：  20%-85%；

　设备应安装在通风---的厂房内。

真空除气存储柜工艺流程

真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。

该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。

设备具有---的智能化，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。