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真空腔体

电解抛光

电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，北京真空腔体加工价格，效果较好。电化学抛光过程分为两步：（1）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，半导体真空腔体加工价格，ra>;1μm。（2）微光平整 阳极极化，表面光亮度提高，ra＜1μm 。

磁研磨抛光

磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，真空腔体加工价格，对工件磨削加工。这种方法加工、---，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到ra0.1μm 。在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同，非标真空腔体加工价格，严格来说，模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有---的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何度也有---的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。镜面加工的标准分为四级：ao=ra0.008μm，a1=ra0.016μm，a3=ra0.032μm，a4=ra0.063μm，由于电解抛光、流体抛光等方法很难控制零件的几何度，而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。

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