一种真空除气存储柜，包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等，柜体内设置有一个或多个储物室，储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端，柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖，储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板，硅片除气装置品牌，托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连，真空除气炉。
本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置---期通风---的位置。
请小心将物品放入机台，硅片除气装置，关上箱门，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到---。
1、加热区尺寸：定制
2、加热功率：30-80 kw（实际功率可调）
3、加热元件：钼片
4、隔热组件：钼+不锈钢
5、温度测量：s型热电偶
6、控温精度：±1℃
7、升温速率 ：由室温升至1000℃小于80min（空载）
8、加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，河北硅片除气装置，各层之间采用99刚玉陶瓷，硅片除气装置厂家，---体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现---的温度均匀性。具有使用---、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310s）板材料，并且焊接多道加强筋以---不变形。
9、加热控制：采用pid智能控温模块设计，可编辑30+段升温曲线，存贮20+组工艺配方，组合plc等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能，10寸液晶触摸屏显示操作，具有操作方便，功能---，稳定性好等特点。
科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
---真空度高；
控温精度高；
更高的升温速率；
智能化；
可真空去除产品空洞与气泡；
降低产品的氧化性；
提高工艺室的洁净度。
科创真空(图)-硅片除气装置品牌-河北硅片除气装置由北京科创鼎新真空技术有限公司提供。北京科创鼎新真空技术有限公司是一家从事“---检漏设备,---质谱检漏仪,lng抽真空设备”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，---经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“科创真空”品牌拥有------。我们坚持“服务，用户”的原则，使科创真空在行业设备中赢得了客户的---，树立了---的企业形象。 ---说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息，谢谢！
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