科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
---真空度高；
控温精度高；
更高的升温速率；
智能化；
可真空去除产品空洞与气泡；
降低产品的氧化性；
提高工艺室的洁净度。
真空测量装置：采用复合真空计，使测量准确。
加热烘烤组件：采用铠装管加热，包括工件托盘及支架，箱室顶部中心测温。功率：9.5千瓦，河北真空除气炉，控制精度：±1℃。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，真空除气炉厂家，为获得较好的真空提供了---的物质基础。
真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。
前级泵：选用涡旋干式真空泵，真空除气炉生产厂家，无油运行，真空除气炉价格，可为真空箱室提供洁净的真空环境。
分子泵：选用脂润滑复合分子泵，可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了---的物质基础。
使用环境
设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；
电源：380 v±38 v，50 hz±0.5 hz，约15kw（外部电源用户自备）；
工件要求：无油污，无腐蚀性物质；
环境温度： 5 ℃ ～ 35 ℃；
相对湿度： 20%-85%；
设备应安装在通风---的厂房内。
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