




一种真空除气存储柜,包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等,柜体内设置有一个或多个储物室,储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端,柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖,储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板,托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连,真空除气炉。
本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方,环境温度是5-35℃,环境湿度是35%~65%的相对湿度;且要保持放置---期通风---的位置。
请小心将物品放入机台,关上箱门,检查是否密闭。试验结速后,站侧面打开箱门,以免热气烫到---。
科创鼎新公司生产的高真空除气炉,硅片除气装置价格,真空度可---10-7pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点:
---真空度高;
控温精度高;
更高的升温速率;
智能化;
可真空去除产品空洞与气泡;
降低产品的氧化性;
提高工艺室的洁净度。
真空除气储存柜,又称真空存储箱,硅片除气装置,用于各类金属材料,化工原料,半导体芯片、电路板、电子器件,电池片、电池材料等其他易氧化材料的真空存储,防潮、防氧化。也可用于胶水的真空脱泡、除气等作用,经常在真空灌胶消气泡的工艺过程中应用。
1、放入需要保存的产品,快速抽真空到---真空,可能逐渐回压到一个平衡值,长期保存;
2、放入保存的产品后,启动程序,天津硅片除气装置,快速抽至真空下限值,持续保压如箱内回压到上限值之后,会自动启动抽真空至下限值;
3、抽真空至下真空度后,自动充入氮气至常压,在无氧环境下保存产品。
为了提高空间的利用率,通常可以分为两腔,三腔,四腔,硅片除气装置品牌,六腔体等等。根据产品的存放要求,存放时间和工艺产线要求,程序可以做不同的调整。
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