科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
---真空度高；
控温精度高；
更高的升温速率；
智能化；
可真空去除产品空洞与气泡；
降低产品的氧化性；
提高工艺室的洁净度。
本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，硅片除气装置品牌，均可独立工作。
加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，硅片除气装置公司，各层之间采用99刚玉陶瓷，---体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现---的温度均匀性。具有使用---、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310s）板材料，并且焊接多道加强筋以---不变形。
1、炉型结构：卧式与立式，硅片除气装置，单室与双室或多室，炉体炉门采用双层水冷，前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。
2、---温度：1500℃
3、工作区尺寸：按照用户需求定制
4、设备总功率：20-100 kw（含加热系统、真空机组、制冷机）
5、电源频率：50hz
6、电源电压：三相380 v（±10v）
硅片除气装置-北京科创真空-硅片除气装置公司由北京科创鼎新真空技术有限公司提供。北京科创鼎新真空技术有限公司为客户提供“---检漏设备,---质谱检漏仪,lng抽真空设备”等业务，公司拥有“科创真空”等品牌，---于行业设备等行业。，在北京市昌平区科技园区仁和路4号3幢321房间的名声---。欢迎来电垂询，联系人：任经理。
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