北京科创真空-硅片除气装置公司-硅片除气装置

真空除气储存柜的放置

本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，硅片除气装置价格，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置---期通风---的位置。使用前注意电压是否正确，硅片除气装置品牌，仅适用机台上所标示之电压，避免电过量，而使电线走火．请勿置于潮湿之场所，请勿直接用水冲洗，以防漏电；

请小心将物品放入机台，关上箱门，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到---。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

　---真空度高；

　控温精度高；

　更高的升温速率；

　智能化；

　可真空去除产品空洞与气泡；

　降低产品的氧化性；

　提高工艺室的洁净度。