硅片除气装置-科创真空公司-硅片除气装置公司

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

　---真空度高；

　控温精度高；

　更高的升温速率；

　智能化；

　可真空去除产品空洞与气泡；

　降低产品的氧化性；

　提高工艺室的洁净度。

真空除气储存柜维护要求

真空除气储存柜，又称真空存储箱，用于各类金属材料，化工原料，半导体芯片、电路板、电子器件，硅片除气装置公司，电池片、电池材料等其他易氧化材料的真空存储，防潮、防氧化。也可用于胶水的真空脱泡、除气等作用，经常在真空灌胶消气泡的工艺过程中应用。

1、放入需要保存的产品，硅片除气装置，快速抽真空到---真空，可能逐渐回压到一个平衡值，长期保存；

2、放入保存的产品后，启动程序，快速抽至真空下限值，持续保压如箱内回压到上限值之后，会自动启动抽真空至下限值；

3、抽真空至下真空度后，自动充入氮气至常压，在无氧环境下保存产品。

为了提高空间的利用率，通常可以分为两腔，三腔，硅片除气装置，四腔，硅片除气装置生产厂家，六腔体等等。根据产品的存放要求，存放时间和工艺产线要求，程序可以做不同的调整。