本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，均可独立工作。
加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，真空除气炉生产厂家，各层之间采用99刚玉陶瓷，---体为钼片，真空除气炉，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现---的温度均匀性。具有使用---、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310s）板材料，并且焊接多道加强筋以---不变形。
科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
---真空度高；
控温精度高；
更高的升温速率；
智能化；
可真空去除产品空洞与气泡；
降低产品的氧化性；
提高工艺室的洁净度。
使用环境
设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；
电源：380 v±38 v，50 hz±0.5 hz，约15kw（外部电源用户自备）；
工件要求：无油污，无腐蚀性物质；
环境温度： 5 ℃ ～ 35 ℃；
相对湿度： 20%-85%；
设备应安装在通风---的厂房内。
真空除气炉-北京科创真空公司-真空除气炉由北京科创鼎新真空技术有限公司提供。行路致远，---。北京科创鼎新真空技术有限公司致力成为与您共赢、共生、共同前行的---，更矢志成为行业设备具有竞争力的企业，与您一起飞跃，共同成功!
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