硅片除气装置-科创真空公司-硅片除气装置生产厂家

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    2024-3-16

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真空除气储存柜的技术参数

1. 腔室内尺寸:号宽1050x高200x深700mm  号宽1050x高380x深700mm;

2. ---真空度:2×10-5pa;

3. 加热烘烤:200-800℃烘烤除---能,硅片除气装置公司,±3℃;

4. 整体结构型式:泵箱一体,三个腔室;

5. 观察窗:每一个箱室均配一个φ100观察窗,材质为石英玻璃,透光好;

6. 控制方式:一室一泵配置,硅片除气装置价格,自动保持真空,可手动独立控制工作;

7. 异常报警功能:具有自动监控各部分的运行状态功能,异常诊断报警,故障诊断,并停止设备运行的功能。




真空除气储存柜设备用途 

本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。

机械部分主要由以下两个单元构成:真空箱室单元、真空获得系统单元。

真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺:半导体硅片除气;3d打印金属工件与合金材料的高真空热处理;x射线管高真空除气。




真空除气炉、真空存储柜的保养维护

保修期满后,供方将以优惠价格向用户提供备品备件,硅片除气装置,并对设备提供有偿技术和维修服务;

设备安装调试时,对用户进行技术培训,硅片除气装置,培训内容包括设备的工作原理、操作、安全、维修、质控等。

设备日常维护包括真空泵的油位检查、电机有无异响、电压电流是否正常、水冷机制冷与流量是否存在异常。真空室内保持清洁,不得有灰尘、异物或者溅入液体以及腐蚀性物质。应当定期对箱室清洁,可以进行酒精擦拭、氮气吹扫等。




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