




科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可---10-7pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点:
---真空度高;
控温精度高;
更高的升温速率;
智能化;
可真空去除产品空洞与气泡;
降低产品的氧化性;
提高工艺室的洁净度。
1. 腔室内尺寸:号宽1050x高200x深700mm 号宽1050x高380x深700mm;
2. ---真空度:2×10-5pa;
3. 加热烘烤:200-800℃烘烤除---能,真空除气炉,±3℃;
4. 整体结构型式:泵箱一体,三个腔室;
5. 观察窗:每一个箱室均配一个φ100观察窗,材质为石英玻璃,透光好;
6. 控制方式:一室一泵配置,自动保持真空,可手动独立控制工作;
7. 异常报警功能:具有自动监控各部分的运行状态功能,异常诊断报警,故障诊断,真空除气炉品牌,并停止设备运行的功能。
真空除气储存柜,又称真空存储箱,用于各类金属材料,化工原料,半导体芯片、电路板、电子器件,电池片、电池材料等其他易氧化材料的真空存储,防潮、防氧化。也可用于胶水的真空脱泡、除气等作用,经常在真空灌胶消气泡的工艺过程中应用。
1、放入需要保存的产品,快速抽真空到---真空,可能逐渐回压到一个平衡值,长期保存;
2、放入保存的产品后,启动程序,真空除气炉,快速抽至真空下限值,持续保压如箱内回压到上限值之后,会自动启动抽真空至下限值;
3、抽真空至下真空度后,自动充入氮气至常压,在无氧环境下保存产品。
为了提高空间的利用率,通常可以分为两腔,三腔,四腔,真空除气炉价格,六腔体等等。根据产品的存放要求,存放时间和工艺产线要求,程序可以做不同的调整。
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