本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3d打印金属工件与合金材料的高真空热处理；x射线管高真空除气。
1. 腔室内尺寸：号宽1050x高200x深700mm 号宽1050x高380x深700mm；
2. ---真空度：2×10-5pa；
3. 加热烘烤：200-800℃烘烤除---能，±3℃；
4. 整体结构型式：泵箱一体，三个腔室；
5. 观察窗：每一个箱室均配一个φ100观察窗，北京硅片除气装置，材质为石英玻璃，硅片除气装置品牌，透光好；
6. 控制方式：一室一泵配置，自动保持真空，可手动独立控制工作；
7. 异常报警功能：具有自动监控各部分的运行状态功能，异常诊断报警，故障诊断，并停止设备运行的功能。
真空测量装置：采用复合真空计，使测量准确。
加热烘烤组件：采用铠装管加热，包括工件托盘及支架，箱室顶部中心测温。功率：9.5千瓦，硅片除气装置价格，控制精度：±1℃。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了---的物质基础。
真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。
前级泵：选用涡旋干式真空泵，硅片除气装置，无油运行，可为真空箱室提供洁净的真空环境。
分子泵：选用脂润滑复合分子泵，可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了---的物质基础。
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