真空腔体的内壁表面吸附大量的气体分子或其他有机物，成为影响真空度的放气源。为实现真空，要对腔体进行150—250℃的高温烘烤，以促使材料表面和内部的气体尽快放出。烘烤方式有在腔体外壁缠绕加热带、在腔体外壁固定铠装加热丝或直接将腔体置于烘烤帐篷中。比较经济简单的烘烤方法是使用加热带，加热带的外面再用铝箔包裹，防止热量散失的同时也可使腔体均匀受热。
提供设备腔的定---务，半导体真空腔体加工，腔体的外形和开口可以根据用户要求进行设计。
表面分析腔有通用腔体，用户也可以在通用腔体的基础上进行自定义设计。
手套箱和焊接箱于熔炼或焊接钛、锌等对易在---中氧化的材料。
真空密封颈是基板和钟形罩之间的过渡组件，它可以提供额外的高度和更多的自由端口。
装载锁定室是建在主腔体上的小腔体，可在不破坏主腔体真空度的条件下，将样本、晶片或其他组件从外部---环境移动到内部高真空环境中。
表面分析腔有通用腔体，用户也可以在通用腔体的基础上进行自定义设计。
真空腔体可以按照真空度进行分类，包括粗或低真空度(< 760， >; 1 torr)，中真空度(< 1， >;10-3 torr)，高真空度(< 10-3， >;10-8 torr)，真空度(< 10-8 torr)，以及非真空的高压力 (>; 760 torr)。真空腔的宽度和外径等常规尺寸是非常重要的参数。标准钟形罩或柱形腔体的可选直径是12英寸，14英寸，18英寸和24英寸。
真空腔体或者真空组件的可选项包括法兰、装配形式、表面抛光或电抛光、开口或传导口，加热器和冷却方式等。
ferrotec在真空中制造中的解决方案
使用磁流体密封件作为在旋转过程中真空解决方案。磁流体密封件可以隔绝---和污染物。
制备的石英用来制造视口及配件等组件，半导体真空腔体加工，石英在许多其他加工工艺中也有使用。
真空镀膜可选ferrotec的pvd电子束蒸发系统。
如需了解更多真空环境下的制造信息，请参考真空工业界的资料。
复杂的真空腔体通常需要定制，半导体真空腔体加工公司，即针对应用终端进行专门的设计和制作。某些常见的真空腔体已经过预先设计，如手套箱、焊接室、脱气箱、表面分析真空腔等。例如脱气箱和手套箱一般采用低真空环境，可用于焊接，或用于塑料制品、复合材料层压板、封装组件等的脱气。
真空腔体是保持内部为真空状态的容器，真空腔体加工要考虑容积、材质和形状。
真空系统主要采用不锈钢材质。其中300系列不锈钢(表1)是含cr10%～20%的低碳钢，具有优良的抗腐蚀性、无磁性、焊接性好、导电率、放气率低和导热率低、能够在-270～900℃工作等优点，在高真空和真空系统中，应用较广。
为了减小腔体内壁的表面积，通常用喷砂或电解抛光的方式来获得平坦的表面。真空系统的腔体，更多的是利用电解抛光来进行表面处理。
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