真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。
该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。
设备具有---的智能化，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，硅片除气装置，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，硅片除气装置公司，方便客户的使用。
1、炉型结构：卧式与立式，单室与双室或多室，硅片除气装置价格，炉体炉门采用双层水冷，前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。
2、---温度：1500℃
3、工作区尺寸：按照用户需求定制
4、设备总功率：20-100 kw（含加热系统、真空机组、制冷机）
5、电源频率：50hz
6、电源电压：三相380 v（±10v）
科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
---真空度高；
控温精度高；
更高的升温速率；
智能化；
可真空去除产品空洞与气泡；
降低产品的氧化性；
提高工艺室的洁净度。
硅片除气装置公司-硅片除气装置-科创真空产品由北京科创鼎新真空技术有限公司提供。北京科创鼎新真空技术有限公司拥有---的服务与产品，不断地受到新老用户及业内人士的肯定和---。我们公司是商盟会员，---页面的商盟图标，可以直接与我们人员对话，愿我们今后的合作愉快！
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息，谢谢！
本文链接：https://tztz100000308506.zhaoshang100.com/zhaoshang/285267312.html
关键词：
滇公网安备 53011202000392号