科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
---真空度高；
控温精度高；
更高的升温速率；
智能化；
可真空去除产品空洞与气泡；
降低产品的氧化性；
提高工艺室的洁净度。
一种真空除气存储柜，包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等，硅片除气装置，柜体内设置有一个或多个储物室，硅片除气装置厂家，储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端，硅片除气装置价格，柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖，储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板，托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连，真空除气炉。
1、炉型结构：卧式与立式，单室与双室或多室，炉体炉门采用双层水冷，前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。
2、---温度：1500℃
3、工作区尺寸：按照用户需求定制
4、设备总功率：20-100 kw（含加热系统、真空机组、制冷机）
5、电源频率：50hz
6、电源电压：三相380 v（±10v）
硅片除气装置-北京科创真空公司-硅片除气装置价格由北京科创鼎新真空技术有限公司提供。北京科创鼎新真空技术有限公司是一家从事“---检漏设备,---质谱检漏仪,lng抽真空设备”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，---经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“科创真空”品牌拥有------。我们坚持“服务，用户”的原则，使科创真空在行业设备中赢得了客户的---，树立了---的企业形象。 ---说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！
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