科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
---真空度高；
控温精度高；
更高的升温速率；
智能化；
可真空去除产品空洞与气泡；
降低产品的氧化性；
提高工艺室的洁净度。
1、加热区尺寸：定制
2、加热功率：30-80 kw（实际功率可调）
3、加热元件：钼片
4、隔热组件：钼+不锈钢
5、温度测量：s型热电偶
6、控温精度：±1℃
7、升温速率 ：由室温升至1000℃小于80min（空载）
8、加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，---体为钼片，硅片除气装置生产厂家，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现---的温度均匀性。具有使用---、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310s）板材料，并且焊接多道加强筋以---不变形。
9、加热控制：采用pid智能控温模块设计，可编辑30+段升温曲线，存贮20+组工艺配方，硅片除气装置，组合plc等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能，硅片除气装置，10寸液晶触摸屏显示操作，具有操作方便，功能---，稳定性好等特点。
使用环境
设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；
电源：380 v±38 v，50 hz±0.5 hz，约15kw（外部电源用户自备）；
工件要求：无油污，无腐蚀性物质；
环境温度： 5 ℃ ～ 35 ℃；
相对湿度： 20%-85%；
设备应安装在通风---的厂房内。
硅片除气装置-硅片除气装置-科创真空公司(查看)由北京科创鼎新真空技术有限公司提供。北京科创鼎新真空技术有限公司是从事“---检漏设备,---质谱检漏仪,lng抽真空设备”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供---的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：任经理。
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