




本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成:真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空箱室单元由真空箱、真空测量装置、加热烘烤组件、管道阀门等组成。
真空箱:采用304不锈钢材质制造,分为上中下三个独立的真空箱室,其内表面在加工后经除油、电抛光处理,---了较少的藏气,提高了真空箱室的抽空效率和---真空。真空箱室外部有加强筋,硅片除气装置,---真空箱室承压能力。每个真空箱室门中间部位各具有一个φ100石英观察窗,真空箱室与真空获得系统采用柔性软管连接,方便快捷,并减少震动。真空箱室开门为上中下三开门,氟胶圈型式密封,向右侧侧开门。
科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可---10-7pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点:
---真空度高;
控温精度高;
更高的升温速率;
智能化;
可真空去除产品空洞与气泡;
降低产品的氧化性;
提高工艺室的洁净度。
真空除气储存柜,又称真空存储箱,河北硅片除气装置,用于各类金属材料,化工原料,半导体芯片、电路板、电子器件,电池片、电池材料等其他易氧化材料的真空存储,防潮、防氧化。也可用于胶水的真空脱泡、除气等作用,经常在真空灌胶消气泡的工艺过程中应用。
1、放入需要保存的产品,快速抽真空到---真空,可能逐渐回压到一个平衡值,长期保存;
2、放入保存的产品后,启动程序,快速抽至真空下限值,持续保压如箱内回压到上限值之后,会自动启动抽真空至下限值;
3、抽真空至下真空度后,自动充入氮气至常压,在无氧环境下保存产品。
为了提高空间的利用率,通常可以分为两腔,三腔,硅片除气装置多少钱,四腔,硅片除气装置公司,六腔体等等。根据产品的存放要求,存放时间和工艺产线要求,程序可以做不同的调整。
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