硅片除气装置-北京科创真空-硅片除气装置价格

真空除气炉、真空存储柜的使用环境

使用环境

　设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；

　电源：380 v±38 v，50 hz±0.5 hz，约15kw（外部电源用户自备）；

　工件要求：无油污，无腐蚀性物质；

　环境温度：   5 ℃ ～ 35 ℃；

　相对湿度：  20%-85%；

　设备应安装在通风---的厂房内。

真空除气储存柜维护要求

真空除气储存柜，又称真空存储箱，用于各类金属材料，化工原料，半导体芯片、电路板、电子器件，电池片、电池材料等其他易氧化材料的真空存储，防潮、防氧化。也可用于胶水的真空脱泡、除气等作用，经常在真空灌胶消气泡的工艺过程中应用。

1、放入需要保存的产品，快速抽真空到---真空，可能逐渐回压到一个平衡值，长期保存；

2、放入保存的产品后，启动程序，快速抽至真空下限值，持续保压如箱内回压到上限值之后，会自动启动抽真空至下限值；

3、抽真空至下真空度后，自动充入氮气至常压，在无氧环境下保存产品。

为了提高空间的利用率，通常可以分为两腔，硅片除气装置公司，三腔，四腔，硅片除气装置品牌，六腔体等等。根据产品的存放要求，存放时间和工艺产线要求，程序可以做不同的调整。