北京科创真空公司-硅片除气装置公司-硅片除气装置

真空除气储存柜的加热系统

1、加热区尺寸：定制

2、加热功率：30-80 kw（实际功率可调）

3、加热元件：钼片

4、隔热组件：钼+不锈钢

5、温度测量：s型热电偶

6、控温精度：±1℃

7、升温速率 ：由室温升至1000℃小于80min（空载）

8、加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，硅片除气装置，---体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现---的温度均匀性。具有使用---、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310s）板材料，硅片除气装置生产厂家，并且焊接多道加强筋以---不变形。

9、加热控制：采用pid智能控温模块设计，可编辑30+段升温曲线，存贮20+组工艺配方，组合plc等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能，10寸液晶触摸屏显示操作，具有操作方便，功能---，稳定性好等特点。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可---10-7pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

　---真空度高；

　控温精度高；

　更高的升温速率；

　智能化；

　可真空去除产品空洞与气泡；

　降低产品的氧化性；

　提高工艺室的洁净度。